可見光衰減片

可見光衰減片光學(xué)指標(biāo)：截止波段：400~700nm@T=0.001%，0.01%，0.1%，1%，10%，20%，30%，40%，50%，60%，70%，80%，90%。

注:以上參數(shù)僅供參考，可見光衰減片參數(shù)指標(biāo)請(qǐng)咨詢我公司的在線客服人員或致電我公司。
相關(guān)名詞解釋

產(chǎn)品概述中性密度濾光片知識(shí) 相關(guān)資訊資料下載

可見光衰減片應(yīng)用領(lǐng)域：醫(yī)療設(shè)備光探測(cè)器、臨床生化分析設(shè)備、化學(xué)檢測(cè)設(shè)備、各種光學(xué)儀器設(shè)備、電子學(xué)顯像系統(tǒng)、紫外測(cè)量?jī)x器、各種激光器、光學(xué)數(shù)碼照相機(jī)、攝像機(jī)、安防監(jiān)控?cái)z像機(jī)、光通訊衰減濾波器。

使用注意事項(xiàng)：

1.使用時(shí)請(qǐng)戴好手指套，不要用手指直接觸碰可見光衰減片表面，以免殘留的手指影響中性密度濾光片通光效果。

2.如可見光衰減片表面臟時(shí)，可用無(wú)塵沾上酒精擦拭鏡片表面。不可用表面很粗糙的布或紙或沾水擦拭，否則會(huì)損壞可見光衰減片表面。

3.檢查光路各調(diào)整光軸時(shí)，請(qǐng)一定做好相應(yīng)的防護(hù)。

4.如果用了可見光衰減片后系統(tǒng)效果還是不好，請(qǐng)把詳細(xì)光路系統(tǒng)告訴我們，我們來(lái)幫您分析原因，讓您少走很多冤枉路。（當(dāng)然，我們會(huì)對(duì)客戶的方案保密，盡可放心！和客戶一起成長(zhǎng)是我們不變的宗旨）。

可見光衰減片的方法有很多種，包括電鍍、化學(xué)鍍，真空蒸發(fā)鍍以及磁控濺射鍍膜法。

工業(yè)化生產(chǎn)中人們既關(guān)心產(chǎn)品的綜合性能又要考慮制備成本，在以上制備方法中化學(xué)鍍膜工藝流程簡(jiǎn)單，成本低廉，且操作簡(jiǎn)便，因此受到人們的重視，但該方法會(huì)產(chǎn)生廢液，污染環(huán)境；磁控濺射鍍膜工藝技術(shù)先進(jìn)，制備的薄膜具有質(zhì)量保證，是目前廣泛應(yīng)用的一種制備手段，相比于其他方法，磁控濺射鍍膜具有成膜速率高，基片溫度低，膜粘附性好等鍍膜優(yōu)點(diǎn)，而且對(duì)環(huán)境無(wú)污染，適合低碳要求，是一種綠色制造技術(shù)，是最有發(fā)展前景的表面涂覆技術(shù)之一。

從市場(chǎng)需求的角度看，滿足光衰減器小型集成化、系列化的發(fā)展，但其使用設(shè)備儀器復(fù)雜，靶材尺寸固定，原材料需要加工，成本相對(duì)較高。

基于產(chǎn)品性價(jià)比的考慮，有必要對(duì)化學(xué)鍍和磁控濺射鍍這兩種典型鍍膜方法進(jìn)行綜合分析和對(duì)比，進(jìn)而研究工藝參數(shù)對(duì) Ni/Si O 2 光衰減片的表面形貌、晶體結(jié)構(gòu)、三維結(jié)構(gòu)、粗糙度以及對(duì)光衰減率的影響，通過調(diào)節(jié)工藝參數(shù)來(lái)獲得具有不同光衰減率的光衰減片，從而滿足人們對(duì)不同膜系功能的需求。